까다로운 하이테크 애플리케이션에 적합한 정밀하고 안정적인 포지셔닝 시스템

최신 하이테크 포지셔닝 애플리케이션의 주요 어려움으로는 장기간 안정적인 포지셔닝, 나노미터 범위의 재현 가능한 움직임, 컴팩트한 디자인, 작은 설치 공간에서 사용할 수 있는 유연한 구성 등이 있습니다. 아주 작은 편차로도 기능이 손상될 수 있어 분해능, 안정성, 통합 기능을 꼼꼼하게 따져야 합니다. B-421 BIX 소형 리니어 스테이지는 이러한 기술적 요구 사항을 안정적으로 충족할 수 있도록 개발되었습니다.
한눈에 살펴보는 장점:
- 뛰어난 정밀도: 10nm의 최소 이동 거리
- 안정성: 장시간 동안 높은 위치 안정성을 제공하는 self-locking 메커니즘
- 내하중성: 고중량의 최대 가반 하중 및 매우 높은 수준의 구동력
- 공간 절약 및 유연성: 컴팩트한 디자인 및 다축 조합을 위한 적층 가능한 형태
- 정밀한 포지셔닝: 높은 분해능 및 재현성
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정확한 빔 형성 및 조향

최신 고정밀 시스템의 성공 여부는 특히 나노미터 정밀도로 광학 구성품을 안정적으로 포지셔닝하는 데 달려 있습니다. 빔 조정의 경우 일반적인 요구 사항으로는 미러, 다이어프램, 렌즈의 장기적인 포지셔닝과 재현 가능한 빔 조향을 위한 나노미터 수준의 정밀한 얼라인먼트가 있습니다. 나노미터 단위의 정밀한 모션이 가능하고 다축 설정에 유연하게 통합할 수 있는 소형 포지셔닝 시스템에 대한 수요는 증가하고 있습니다. 이는 오버레이 계측과 같은 반도체 산업의 빔 품질과 TIRF 또는 STED와 같은 초고분해능 현미경과 같은 경우에 특히 중요합니다.

반도체 산업의 품질 보증 공정의 기존 시스템이 한계를 드러냈던 부분에서 B-421 BIX 소형 리니어 스테이지를 통해 정밀도를 한 단계 끌어올릴 수 있었습니다. 컴팩트한 디자인과 나노미터 범위의 정밀한 모션 덕분에 고객이 신뢰할 수 있는 품질 관리와 공정 최적화를 구현할 수 있었습니다.
Dr. Cameron Hughes, Product Manager PI
한눈에 살펴보는 중요 사항:

한눈에 살펴보는 중요 사항:
- 10nm의 최소 이동 거리
- 크기: 25x11mm(가로x세로)
- 13~33mm의 이동 범위
- 분해능: 6nm
- 최대 2.5N의 구동력
- 0.5kg(X 방향 모션), 0.15kg(Z 방향 모션)의 최대 가반 하중
- 사용자 친화적인 PIMikroMove 소프트웨어
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